您现在的位置是:ASML已交付第三代EUV 可用于制造2nm芯片 >>正文
ASML已交付第三代EUV 可用于制造2nm芯片
亿美图2人已围观
简介最近ASML(阿斯麦)交付了第三代极紫外(EUV)光刻工具,新设备型号为Twinscan NXE:3800E,配备了0.33数值孔径透镜。相比于之前的Twinscan NXE:3600D,性能有了进一...
最近ASML(阿斯麦)交付了第三代极紫外(EUV)光刻工具,新设备型号为Twinscan NXE:3800E,配备了0.33数值孔径透镜。相比于之前的Twinscan NXE:3600D,性能有了进一步的提高,可以支持未来几年3nm及2nm芯片的制造。
在ASML看来,Twinscan NXE:3800E代表了Low-NA EUV光刻技术在性能(每小时处理的晶圆数量)和精度方面的又一次飞跃。新的光刻设备可实现每小时处理195片晶圆的处理速度,相比Twinscan NXE:3600D的160片大概提升了22%,将来有可能提高至220片。此外,新工具还提供了小于1.1nm的晶圆对准精度。
即便用于4/5nm芯片的生产,Twinscan NXE:3800E也能提升效率,让制造商可以提高芯片生产的经济性,实现更为高效且更具成本效益的芯片生产。更为重要的一点,是Twinscan NXE:3800E对于制造2nm芯片和后续需要双重曝光的制造技术有更好的效果,精度的提升会让3nm以下的制程节点受益。
Twinscan NXE:3800E光刻机的价格并不便宜,机器的复杂性和功能是以巨大的成本为代价,每台大概在1.8亿美元。不过比起新一代High-NA EUV光刻机的报价,显然还是要低很多。此前有报道称,业界首款采用High-NA EUV光刻技术的TWINSCAN EXE:5200光刻机报价达到了3.8亿美元。
ASML还会继续推进Low-NA EUV光刻设备的开发,接下来将带来新款Twinscan NXE:4000F,计划在2026年发布,这凸显了ASML对EUV制造技术的承诺。
Tags:
相关文章
我国海上第一深井正式投产 钻井深度9508米
ASML已交付第三代EUV 可用于制造2nm芯片IT之家今日(4月13日)消息,据央视新闻报道,我国自主设计实施的海上第一深井“中国海油恩平油田超深大位移井”目前已经正式投产。据悉,该深井位于深圳西南方约200公里的海域,平均水深86米,钻井深度达...
阅读更多
卡皮巴拉特写照片公开!《阴阳师》野生动物守护计划正在进行中
ASML已交付第三代EUV 可用于制造2nm芯片卡皮巴拉特写照片公开!《阴阳师》野生动物守护计划正在进行中《阴阳师》「守护的契约· 野生动物守护计划」活动正在进行中!参与活动玩法可获得活动限定插画「清泉之约」棕色的身影在绿荫下悠闲移动,草料与水果的...
阅读更多
《王者荣耀》扁鹊“无尽旅途”皮肤现已开售 仅需60点券
ASML已交付第三代EUV 可用于制造2nm芯片《王者荣耀》扁鹊“无尽旅途”皮肤现已开售 仅需60点券飘带上刻画涂鸦感的渐变花纹,与发色和下摆形成色彩呼应。手中装满红色药剂的瓶子,陪他一同踏上这趟无尽的旅途。《王者荣耀》官方发布扁鹊“无...
阅读更多